MH Niobium লক্ষ্য বিশুদ্ধতা গ্রেড উপলব্ধ
99.95% (4N) নিওবিয়াম লক্ষ্য
● অতি-অত্যন্ত কম ধাতব এবং গ্যাসীয় অমেধ্য সহ উচ্চ বিশুদ্ধতা
● স্থিতিশীল প্লাজমা, কম কণা প্রজন্ম
● সেমিকন্ডাক্টর, সুপারকন্ডাক্টিং এবং উচ্চ-ইলেক্ট্রনিক ফিল্মের জন্য উপযুক্ত
99.9% (3N) নিওবিয়াম লক্ষ্য
● চমৎকার খরচ{0}}কর্মক্ষমতা অনুপাত সহ উচ্চ বিশুদ্ধতা
● শিল্প আবরণ অ্যাপ্লিকেশনের জন্য নির্ভরযোগ্য sputtering স্থায়িত্ব
● সাধারণ ইলেকট্রনিক, অপটিক্যাল এবং কার্যকরী আবরণের জন্য উপযুক্ত
এমএইচ নিওবিয়াম টার্গেট ফর্ম
আমরা বিভিন্ন স্পুটারিং সিস্টেমের সাথে মেলে একাধিক জ্যামিতিতে নিওবিয়াম লক্ষ্য সরবরাহ করি:
আয়তক্ষেত্রাকার / বর্গাকার লক্ষ্য
● প্ল্যানার স্পুটারিং সিস্টেম
● ম্যাগনেট্রন স্পুটারিং ক্যাথোড
● বিশাল-এলাকা ইউনিফর্ম ফিল্ম ডিপোজিশন
টিউবুলার টার্গেট
● ঘূর্ণমান sputtering সিস্টেম
● উচ্চতর লক্ষ্য ব্যবহারের হার
● উন্নত আবরণ অভিন্নতা এবং উত্পাদন দক্ষতা
(অনুরোধের ভিত্তিতে কাস্টম মাত্রা এবং বন্ধনের বিকল্প উপলব্ধ।)
এমএইচ নিওবিয়াম টার্গেট স্পেসিফিকেশন রেঞ্জ
|
বিশুদ্ধতা |
99.9%, 99.95% |
|
ঘনত্ব |
তাত্ত্বিক ঘনত্বের 99.9% এর চেয়ে বেশি বা সমান |
|
শস্য গঠন |
সূক্ষ্ম এবং ইউনিফর্ম |
|
সারফেস ফিনিশ |
Ra0.4 |
|
আয়তক্ষেত্রাকার / বর্গাকার লক্ষ্য |
দৈর্ঘ্য 3000 মিমি থেকে কম বা সমান, প্রস্থ 800 মিমি থেকে কম বা সমান, বেধ (মিমি) 1 ~ 20 মিমি |
|
টিউবুলার টার্গেট |
বাইরের ব্যাস 10-400 মিমি, ওয়াল 2-28 মিমি |
99.95% বনাম 99.9% - নির্বাচন নির্দেশিকা
|
আইটেম |
99.95% Nb লক্ষ্য |
99.9% Nb লক্ষ্য |
|
বিশুদ্ধতা স্তর |
অতি-উচ্চ বিশুদ্ধতা (4N) |
উচ্চ বিশুদ্ধতা (3N) |
|
অপবিত্রতা বিষয়বস্তু |
অত্যন্ত নিচু |
কম |
|
ফিল্ম কোয়ালিটি |
সর্বোচ্চ অভিন্নতা এবং স্থায়িত্ব |
স্থিতিশীল, শিল্প-গ্রেড |
|
পার্টিকেল জেনারেশন |
ন্যূনতম |
কম |
|
সাধারণ অ্যাপ্লিকেশন |
সেমিকন্ডাক্টর, সুপারকন্ডাক্টিং ফিল্ম, R&D |
অপটিক্যাল আবরণ, কার্যকরী ছায়াছবি, ভর উত্পাদন |
|
খরচ স্তর |
উচ্চতর |
আরো অর্থনৈতিক |
আয়তক্ষেত্রাকার বনাম টিউবুলার টার্গেট - নির্বাচন নির্দেশিকা
|
তুলনা |
আয়তক্ষেত্রাকার / বর্গাকার লক্ষ্য |
টিউবুলার টার্গেট |
|
প্রক্রিয়া সামঞ্জস্য |
প্ল্যানার স্পুটারিং, ম্যাগনেট্রন স্পুটারিং |
নলাকার স্পুটারিং |
|
উপাদান ব্যবহার |
20%~30% |
70%~85% |
|
সংগ্রহের খরচ |
পরিমিত |
প্লেট লক্ষ্যমাত্রা থেকে অনেক বেশি |
|
উৎপাদন দক্ষতা |
ছোট ব্যাচ, বহু-বৈচিত্র্যের আবরণ |
বড় ব্যাচ এবং ক্রমাগত আবরণ |
|
সারফেস ট্রিটমেন্ট |
ফাইন গ্রাইন্ডিং এবং পলিশিং |
সূক্ষ্ম নাকাল, আরো কঠিন |
|
উপকরণ প্রস্তাবিত |
বিশুদ্ধ নিওবিয়াম (99.95%), Nb-1Zr |
বিশুদ্ধ নিওবিয়াম (99.95%), Nb-1Zr (উচ্চ তাপমাত্রা বিশেষ উদ্দেশ্য) |
এমএইচ নিওবিয়াম টার্গেট টিপিক্যাল অ্যাপ্লিকেশন
সেমিকন্ডাক্টর পাতলা ফিল্ম
সুপারকন্ডাক্টিং নাইওবিয়াম আবরণ
অপটিক্যাল এবং আলংকারিক আবরণ
ডিসপ্লে এবং ইলেকট্রনিক ডিভাইস
গবেষণা এবং উন্নত কার্যকরী চলচ্চিত্র
কেন MH নিওবিয়াম লক্ষ্য নির্বাচন করুন
● উচ্চ বিশুদ্ধতা এবং স্থিতিশীল স্পুটারিং কর্মক্ষমতা
● ইউনিফর্ম মাইক্রোস্ট্রাকচার এবং উচ্চ ঘনত্ব
● একাধিক জ্যামিতি উপলব্ধ: আয়তক্ষেত্রাকার এবং নলাকার
● কাস্টম মাত্রা এবং বন্ধন সমাধান
● উন্নত আবরণ অ্যাপ্লিকেশন প্রমাণিত ব্যবহার
আমাদের niobium sputtering লক্ষ্যগুলি নির্ভরযোগ্য বিশুদ্ধতা, সামঞ্জস্যপূর্ণ স্পুটারিং আচরণ, এবং পাতলা ফিল্ম অ্যাপ্লিকেশনের জন্য উচ্চ মানের ফিল্ম পারফরম্যান্স প্রদান করে।
MH Niobium টার্গেট কাস্টম উত্পাদন
আমরা কাস্টম নিওবিয়াম টার্গেট সমাধান অফার করি, যার মধ্যে রয়েছে:
● অ-মান মাত্রা
● টাইট সহনশীলতা নিয়ন্ত্রণ
● বিশেষ পৃষ্ঠ সমাপ্তি
● আবেদন-নির্দিষ্ট প্রযুক্তিগত প্রয়োজনীয়তা
মূল্যায়নের জন্য অঙ্কন বা বিস্তারিত স্পেসিফিকেশন প্রদান করুন.



গরম ট্যাগ: niobium টার্গেট, চীন niobium টার্গেট নির্মাতারা, সরবরাহকারী, কারখানা












